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氫純化設(shè)備出口為什么需要測露點(diǎn)

時(shí)間:2023-10-10  來源:露點(diǎn)儀  作者:贏潤集團(tuán)
在制氫系統(tǒng)中,對(duì)于氫純化設(shè)備出口氫氣露點(diǎn)的測量是非常重要的一項(xiàng)監(jiān)控工藝。那么氫純化設(shè)備出口為什么需要測露點(diǎn)呢?氫純化設(shè)備氫氣露點(diǎn),是指在一定壓力下,所需降低氫氣溫度至飽和時(shí)形成露水的溫度。通常要求制氫設(shè)備出口使用氫氣微量水分露點(diǎn)分析儀檢測純化后氫氣的露點(diǎn)水分含量,并將露點(diǎn)溫度值控制在負(fù)40°C以下,以確保氫氣中的水汽含量符合標(biāo)準(zhǔn)。這是因?yàn)楫?dāng)水汽含量過高時(shí),會(huì)在氫氣使用過程中引發(fā)一系列問題。
氫純化設(shè)備出口為什么需要測露點(diǎn)
氫氣因其高能、環(huán)保等特性,被廣泛應(yīng)用于能源、航空航天、電子工業(yè)等領(lǐng)域。然而,氫氣中的水分如果未被充分去除,會(huì)對(duì)設(shè)備的運(yùn)行和產(chǎn)品的質(zhì)量帶來極大的影響。尤其是在高精度的電子工業(yè)中,水分可能會(huì)導(dǎo)致半導(dǎo)體芯片的短路和失效。因此,對(duì)氫純化設(shè)備的出口露點(diǎn)進(jìn)行測量,確保其符合使用要求,是至關(guān)重要的。
 
氫氣純化設(shè)備出口測水分露點(diǎn)的主要原因如下
1、水汽會(huì)引發(fā)金屬腐蝕
氫氣中的水汽在高溫環(huán)境下會(huì)與金屬表面發(fā)生反應(yīng),形成氫化物,進(jìn)而引發(fā)金屬腐蝕的問題。這樣會(huì)降低設(shè)備的壽命,并可能導(dǎo)致設(shè)備的功能失效。
2、水汽會(huì)導(dǎo)致液態(tài)氫泄漏
氫氣中的水汽在低溫環(huán)境下會(huì)凝結(jié)成液態(tài)水,并在氫氣傳輸過程中形成水滴。這些水滴會(huì)堵塞管道或附著在設(shè)備內(nèi)部的表面上,從而引發(fā)氫氣的泄漏問題。液態(tài)氫泄漏不僅會(huì)造成資源的浪費(fèi),還可能引發(fā)安全隱患。
3、有助于保證制氫設(shè)備的正常運(yùn)行
在氫氣的生產(chǎn)、儲(chǔ)存和運(yùn)輸過程中,由于環(huán)境條件的變化,氫氣中水分的含量可能會(huì)發(fā)生變化。如果無法及時(shí)準(zhǔn)確地監(jiān)測到這種變化,可能會(huì)導(dǎo)致設(shè)備的性能下降,甚至引發(fā)安全事故。通過定期測量氫氣的露點(diǎn),可以及時(shí)發(fā)現(xiàn)并處理這些問題,保證設(shè)備的穩(wěn)定運(yùn)行。
4、符合氫氣產(chǎn)品國家標(biāo)準(zhǔn)的要求
對(duì)于氫氣產(chǎn)品的質(zhì)量,國家標(biāo)準(zhǔn)《GB/T 3634.1-2006 氫氣 第1部分 工業(yè)氫》和《GB/T 3634.2-2011 氫氣 第2部分:純氫、高純氫和超純氫》中有著嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)要求。其中,就包括了對(duì)氫氣中水分含量露點(diǎn)溫度值的限制。只有嚴(yán)格控制氫氣的露點(diǎn),才能保證生產(chǎn)的氫氣符合國際標(biāo)準(zhǔn),滿足客戶的需求。
氫氣微量水分露點(diǎn)分析儀
以贏潤集團(tuán)研發(fā)生產(chǎn)的ERUN-PG7190便攜式氣體水分露點(diǎn)分析儀和ERUN-PG919T氣體微量水分露點(diǎn)在線分析儀為例,分別適用于隨身攜帶方便快速移動(dòng)測量和固定安裝連續(xù)實(shí)時(shí)在線監(jiān)測氣體的微量水分露點(diǎn)溫度值的工況場所,支持顯示露點(diǎn)溫度Td、溫度T、相對(duì)濕度RH、水分體積濃度ppmv、水分質(zhì)量濃度g/m3等。

工業(yè)級(jí)氫氣露點(diǎn)微量水分檢測儀技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)品型號(hào):ERUN-QZ919T(在線式)、ERUN-PG7190(便攜式)
露點(diǎn)范圍:-80℃~+20℃(可選量程:-100~+20℃)
溫度范圍:-40℃~+100℃
濕度范圍:0~100%RH
精度誤差:±2℃Td、±0.1℃、±0.8RH%
顯示項(xiàng)目:Td、T、RH、ppmv、g/m3
數(shù)據(jù)傳輸:4-20 mA、0-1V、0-5V、0-10V(在線式)、USB(便攜式)
氫氣微量水分露點(diǎn)分析儀
以上就是關(guān)于氫純化設(shè)備出口為什么需要測露點(diǎn)的相關(guān)介紹,制氫設(shè)備出口氫氣露點(diǎn)的測量是確保制氫過程的關(guān)鍵步驟。水汽含量過高會(huì)引發(fā)金屬腐蝕和液態(tài)氫泄漏等問題,因此及時(shí)進(jìn)行氫氣露點(diǎn)測量十分重要。通過氫氣微量水分露點(diǎn)分析儀測量水汽的露點(diǎn)溫度,制氫設(shè)備可以及時(shí)發(fā)現(xiàn)水汽含量異常,并采取相應(yīng)措施,以確保設(shè)備的正常運(yùn)行和氫氣的質(zhì)量。只有保持出口氫氣的水汽含量符合標(biāo)準(zhǔn),才能確保制氫過程的安全高效進(jìn)行。
 
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